清潔度測試無(wú)塵實(shí)驗室規劃布局

可根據不同的客戶(hù)要求進(jìn)行清潔度無(wú)塵實(shí)驗室規劃布局：

1. 清潔度無(wú)塵室整體規劃布局

2. 風(fēng)淋室、傳遞穿、可視玻璃窗

3. 凈化結構部分、凈化系統部分、配電系統

4. 各個(gè)功能區域的劃分，例如：清洗制樣區域、顆粒分析區域、文件存放區域等

5. 清潔度無(wú)塵室滿(mǎn)足ISO14644-2015、GB50073-2001等標準要求

清潔度無(wú)塵實(shí)驗室承建主要分為：

1. 凈化結構部分

2. 凈化系統部分

3. 配電部分

清潔度無(wú)塵實(shí)驗室主要劃分為以下幾個(gè)區域：

1. 員工更衣室區域

2. 清洗制樣區域

3. 樣品分析區域（稱(chēng)重以及顆粒大小分析）

4. 樣件傳遞區域

5. 清洗液存放區域

6. 文件存放區域

客戶(hù)現場(chǎng)提供220V電源，常規用水即可。

無(wú)塵室中不論外在之空氣條件如何變化，其室內均能俱有維持原先所設定要求之潔凈度、溫濕度及壓力等性能之特性。

無(wú)塵室最主要之作用在于控制產(chǎn)品（如硅芯片等）所接觸之大氣的潔凈度日及溫濕度，使產(chǎn)品能在一個(gè)良好之環(huán)境空間中生產(chǎn)、制造，此空間我們稱(chēng)之為無(wú)塵室。按照國際慣例，無(wú)塵凈化級別主要是根據每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標準的粒子數量來(lái)規定。也就是說(shuō)所謂無(wú)塵并非100%沒(méi)有一點(diǎn)灰塵，而是控制在一個(gè)非常微量的單位上。當然這個(gè)標準中符合灰塵標準的顆粒相對于我們常見(jiàn)的灰塵已經(jīng)是小的微乎其微，但是對于光學(xué)構造而言，哪怕是一點(diǎn)點(diǎn)的灰塵都會(huì )產(chǎn)生非常大的負面影響，所以在光學(xué)構造產(chǎn)品的生產(chǎn)上，無(wú)塵是必然的要求。

如表所示，每立方米將大于0.5微米粒徑的微塵數量控制在3500個(gè)以下，就達到了國際無(wú)塵標準的A級。應用在芯片級生產(chǎn)加工的無(wú)塵標準對于灰塵的要求高于A(yíng)級，這樣的高標主要被應用在一些等級較高芯片生產(chǎn)上。微塵數量被嚴格控制在每立方米1000個(gè)以?xún)?，這也就是業(yè)內俗稱(chēng)的1K級別。